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반도체 소자 성능 향상이 핵심 과제로 떠오르면서, 이를 가능케 하는 미세 공정 기술에 흥미를 갖고 탐구를 시작함
CVD 공정의 반응 메커니즘을 조사하고, 공정 단계별 화학적 원리를 분석함
기체 원료의 활성화, 라디칼 형성, 기판 표면 흡착 과정을 통해 균일한 박막이 형성됨을 확인함
온도, 압력, 기체 반응성 등 공정 조건에 따라 박막의 특성과 반도체 활용 분야가 달라짐을 이해함
CVD 공정이 반도체의 성능을 좌우하는 핵심 기술임을 이해하고, 미세 구조를 설계하는 화학공학적 접근의 중요성을 확인함